Yüksek hassasiyetli maskesiz litografi olanağı sunan Heidelberg MLA 150, dijital veriden doğrudan pozlama yapabilme kabiliyeti sayesinde fotomaske ihtiyacını ortadan kaldırmakta ve tasarımdan üretime hızlı geçiş imkânı sağlamaktadır. Sistem, özellikle hızlı prototipleme çalışmaları, çok katmanlı prosesler ve yüksek hassasiyet gerektiren mikro/nano üretim uygulamaları açısından önemli avantajlar sunmaktadır.
Heidelberg MLA 150 sistemi;
- CAD/GDSII tabanlı doğrudan dijital pozlama,
- Yaklaşık 1 µm çözünürlükte işlem yapabilme,
- Yaklaşık 500 nm hizalama doğruluğu,
- 5×5 mm ile 6” wafer arasındaki farklı alttaş boyutlarında çalışma,
- Wafer, cam ve polimer gibi çeşitli malzemeleri işleyebilme,
- Kısa yazım süreleriyle verimli üretim,
gibi özellikleriyle araştırmacılara esnek ve güçlü bir altyapı sunmaktadır.
Sistem; MEMS, fotonik yapılar, mikroakışkan çipler, sensör geliştirme ve benzeri birçok ileri teknoloji uygulama alanında kullanılabilmektedir.
Heidelberg MLA 150 Sistemi, Horizon Europe Teaming for Excellence – TEAM-NANO Projesi kapsamında, SUNUM’un ileri nano karakterizasyon altyapısının etkin kullanımını artırmak, araştırmacı yetkinliklerini derinleştirmek ve merkezimizin uluslararası düzeyde rekabetçi araştırma ve hizmet kapasitesini güçlendirmek amacıyla kazandırılmıştır.
TEAM-NANO, Avrupa Birliği tarafından Horizon Europe Programı kapsamında finanse edilmektedir. Hibe No: 101136388.
Fabrikasyon/Test/Analiz Hizmetleri Listemize ulaşmak için: https://sunum.sabanciuniv.edu/tr/alt-yapi/hizmet-bedeli
Ayrıntılı bilgi ve rezervasyon için: sunum-services@sabanciuniv.edu
